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挥发物沉积，挥发物主要指钼、钨、熔体及其中的杂质等。挥发物的沉积在晶体生长过程中无法避免，主要沉积在上保温屏、锅盖及加热器处，由于挥发物的存在，在晶体生长初始阶段，需要更高的加热功率；而晶体生长后期，挥发物使得炉体内的保温效果好，同样加热功率下，温度会升高，因此，为获得同样的晶体质量，则需要更大的功率降幅。

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